[发明专利]稳定生产高纯度食品级二氧化氯的辅助装置与系统有效

专利信息
申请号: 201710186350.5 申请日: 2017-03-27
公开(公告)号: CN107313067B 公开(公告)日: 2019-06-07
发明(设计)人: 曾瑞波;黄世景;刘德辉;曾丰源;曾骏闳 申请(专利权)人: 曾瑞波;黄世景;刘德辉;曾丰源;曾骏闳
主分类号: C25B1/26 分类号: C25B1/26;C25B15/00;B01F3/04;B01F15/00;B01F15/06;C02F1/461;C02F9/04;C02F103/04
代理公司: 北京汇智英财专利代理事务所(普通合伙) 11301 代理人: 唐轶
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种用于电解槽的扰流产生装置,其包括:多个螺旋状环流通道、一冷却剂供应单元,其中,该多个螺旋状环流信道是配置在一用来生产二氧化氯的电解槽的外周缘,且该多个螺旋状环流通道中的每一个设有至少一冷却剂流入口;该冷却剂供应单元是用于提供一冷却剂,借此,当来自该冷却剂供应单元的该一冷却剂通过该冷却剂流入口分别流通这些螺旋状环流通道时,得以使该电解槽内的电解液产生扰流,通过该扰流驱动该电解液,而使得该电解液于产生气体的瞬间所产生的空隙被迅速补充,借以增进电解的效能。
搜索关键词: 稳定 生产 纯度 食品级 氧化 辅助 装置 系统
【主权项】:
1.一种用于电解槽的扰流产生装置,其特征在于,包括:多个螺旋状环流通道,该多个螺旋状环流通道是配置在一用来生产二氧化氯的电解槽的外周缘且该多个螺旋状环流通道中的每一个设有至少一冷却剂流入口;一冷却剂供应单元,其是用于提供一冷却剂,当来自该冷却剂供应单元的该一冷却剂通过该冷却剂流入口分别流通这些螺旋状环流通道时,得以使该电解槽内的电解液产生扰流。
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