[发明专利]一种光学高透胶保护用聚酯薄膜及其制备方法

摘要

本发明涉及聚酯薄膜领域，公开了一种光学高透胶保护用聚酯薄膜及其制备方法；一种光学高透胶保护用聚酯薄膜，包括第一基材层(1)，第二基材层(2)、中间芯层(3)；一种光学高透胶保护用聚酯薄膜的制备方法，包括将二氧化硅和硅烷偶联剂、瓶级聚酯切片混合制成MB10母粒；将纳米ITO抗静电剂和瓶级聚酯切片混合制成抗静电母粒ATS10；通过三层共挤BOPET生产线的投料、结晶、干燥、挤出机熔融、铸片、纵拉、横拉、定型、牵引、电晕、收卷，从而得到本发明所述的一种光学高透胶保护用聚酯薄膜，在整个生产过程薄膜都处在净化车间中；本发明公布的技术方案能有效降低光学高透胶保护用聚酯薄膜内外瑕疵，提高薄膜表面光洁平整度。

主权项

1.一种光学高透胶保护用聚酯薄膜，包括第一基材层(1)，第二基材层(2)、中间芯层(3)，其特征在于：中间芯层(3)为聚酯切片，材料纯度99％‑100％，厚度占光学高透胶保护用聚酯薄膜总厚度的60％‑80％；第一基材层(1)和第二基材层(2)分别占光学高透胶保护用聚酯薄膜总厚度的10％‑20％；第一基材层(1)和第二基材层(2)材料组成均为：50％‑70％的纳米级母粒MB10、3％‑5％纳米级抗静电添加剂母粒ATS10、25％‑47％聚酯切片；纳米级MB10母粒是由0.1％‑1.2％纳米级二氧化硅，0.01％‑0.1％粒径1.0微米‑1.8微米二氧化硅，0.01％‑0.1％高岭土，0.1％‑1％硅烷偶联剂，99.78％‑97.6％瓶级聚酯切片混合配制；纳米级抗静电添加剂母粒ATS10是由3％‑10％的纳米级ITO抗静电剂和90％‑97％瓶级聚酯切片混合制成。