[发明专利]基于Beamlet线特征定位的3D模型水印方法有效
申请号: | 201710190760.7 | 申请日: | 2017-03-28 |
公开(公告)号: | CN106709855B | 公开(公告)日: | 2020-07-28 |
发明(设计)人: | 刘晶;陈进磊;何文娟 | 申请(专利权)人: | 西安理工大学 |
主分类号: | G06T1/00 | 分类号: | G06T1/00 |
代理公司: | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人: | 罗磊 |
地址: | 710048*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种利用顶点一环邻域面积和Beamlet线特征构造水印同步信息的三维盲水印方法,包括以下步骤:依据三维模型顶点的一环邻域面积,从小到大选出M个不重叠的一环邻域;对此M个一环邻域进行独立的切面投影,提取M条Beamlet线特征,确定M个水印位的嵌入位置;修改与Beamlet线特征相对的顶点坐标,使与其相连的两条网格边长度相等来嵌入水印信息位;水印检测不需要原始三维模型。本发明方法为空域盲水印方法,在保证水印透明性前提下,明显改善了水印方法对抗仿射变换攻击的鲁棒性;算法对抗网格简化、平滑和噪声等攻击也具有较强的鲁棒性。 | ||
搜索关键词: | 基于 beamlet 特征 定位 模型 水印 方法 | ||
【主权项】:
基于Beamlet线特征定位的3D模型水印方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1,嵌入水印;步骤1.1,确定水印嵌入位置;步骤1.1.1,计算三维模型顶点的一环邻域面积;步骤1.1.2,依据步骤1.1.1计算的面积,从小到大取M个独立的一环邻域,并将它们投影在各自的一环邻域中心顶点的切面上,以中心顶点在切面上的投影为投影图像的坐标原点,中心顶点的切面为平面建立新坐标系;步骤1.1.3,用8×8个像素大小的二维图像表示投影图像,提取投影图像的Beamlet线特征;步骤1.2,嵌入二值水印信息b′;修改Beamlet线特征相对应的顶点坐标,若修改Beamlet线特征左侧的顶点坐标,使与该顶点相连的两条网格边长度相等,则嵌入二值水印b′的信息位‘1’;若修改Beamlet线特征右侧的顶点坐标,使与该顶点相连的两条网格边长度相等,嵌入二值水印b′的信息位‘‑1’或‘0’;步骤1.3,将M个水印信息位依照步骤1.2嵌入到M个一环邻域内的相应顶点中,得到水印版三维模型;步骤2,提取水印;步骤2.1,确定携带水印信息的顶点;步骤2.1.1,计算水印版三维模型顶点的一环邻域面积;步骤2.1.2,依据步骤2.1.1计算的面积,从小到大取M个独立的一环邻域,并将它们投影在各自的一环邻域中心顶点的切面上,中心顶点在切面上的投影为投影图像的坐标原点;步骤2.1.3,用8×8个像素大小的二维图像表示投影图像,提取投影图像的Beamlet线特征;步骤2.2,提取二值水印信息b″;步骤2.2.1,确定顶点嵌入的水印信息位:若是Beamlet线特征左侧顶点的相连两条网格边长度相等,则携带水印信息位为‘1’;若是Beamlet线特征右侧顶点的相连两条网格边长度相等,则携带水印信息位为‘‑1’或‘0’;依次提取M个一环邻域内相应的顶点中的二值水印信息b″;步骤3,计算水印相关系数ρ,确定水印版三维模型嵌入二值水印信息b′;ρ(b′,b′′)=Σi=1mbi′′×bi′Σi=1mbi′×Σi=1mbi′′---(1)]]>其中,b′为嵌入步骤时所用的二值水印信息,b″为提取获得的二值水印信息;当三维模型没有遭受任何攻击时,提取获得的二值水印序列b″与嵌入的水印序列b′一致,计算得到的相关系数ρ值应该为1;当三维模型遭受攻击时,计算得到的相关系数ρ值应该小于1。若相关系数值ρ在(0.5,1]范围内,则可以验证此三维模型嵌入水印信息b′,算法具有强鲁棒性;若相关系数值ρ在[0,0.5]范围内,水印提取失败。此时,攻击使三维模型遭到严重破坏,模型失去应用价值,版权验证及版权保护已没有任何意义。
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