[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 201710194556.2 申请日: 2017-03-29
公开(公告)号: CN107731851B 公开(公告)日: 2023-06-09
发明(设计)人: 内田慎一;中柴康隆 申请(专利权)人: 瑞萨电子株式会社
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/768;H01L21/762
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 金春实
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及半导体装置。在半导体装置中,抑制噪声经由密封环的传播。半导体装置(SM1)具备形成于包围电路形成区域的密封环区域(1C)的环状的密封环(SR)。密封环(SR)具有BOX层(BX)、n型半导体层(NR)以及由多层的布线(MR1、MR2、MR3、MR4、MR5)构成的环状的电极部(ESR),电极部(ESR)经由插销电极(PL)而与n型半导体层(NR)电连接。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
一种半导体装置,具备:第1区域;第2区域,包围所述第1区域的外周;以及环状的密封环,形成于所述第2区域,所述半导体装置的特征在于,所述第2区域具有:SOI基板,包括第1导电类型的半导体基板、所述半导体基板上的埋入绝缘膜及所述埋入绝缘膜上的半导体层;以及层间绝缘膜,设置于所述半导体层上,所述密封环具有:环状的电极部,埋设于所述层间绝缘膜,并且由导电膜构成;所述半导体层;以及所述埋入绝缘膜,所述电极部与所述半导体层电连接。
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