[发明专利]单晶钙钛矿有机金属卤化物薄膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 201710195157.8 申请日: 2017-03-29
公开(公告)号: CN107093671A 公开(公告)日: 2017-08-25
发明(设计)人: 赵晋津;孔国丽;欧云;赵星宇;谢淑红;魏丽玉;刘正浩 申请(专利权)人: 中国科学院深圳先进技术研究院;石家庄铁道大学
主分类号: H01L51/48 分类号: H01L51/48
代理公司: 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙)11357 代理人: 刘洪勋
地址: 518055 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种单晶钙钛矿有机金属卤化物薄膜制备方法,包括前驱液制备和单晶钙钛矿有机金属卤化物薄膜两个步骤,通过高温挥发和抗溶剂结晶可控限制生长单晶钙钛矿薄膜的方法。与现有技术相比,本发明的钙钛矿薄膜具有单晶结构,薄膜厚度可控,缺陷密度低等优点,有利于钙钛矿薄膜中自由载流子的传输,减少光生电子、空穴的复合,提高钙钛矿太阳能电池的效率。
搜索关键词: 单晶钙钛矿 有机 金属 卤化物 薄膜 制备 方法
【主权项】:
一种单晶钙钛矿有机金属卤化物薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)前驱液制备:将BX2和AX加入到相对应的溶剂中制成0.001‑5mol/L浓度的ABX3钙钛矿前驱液,并将前驱液在30℃‑150℃下搅拌0.5‑48h至均匀澄清;(2)单晶钙钛矿有机金属卤化物薄膜的制备:在制备好电子传输层/空穴传输层的基片上放置限制单晶钙钛矿生长的模具,用于调控单晶钙钛矿生长的空间,并将基片放入容器中,将ABX3钙钛矿前驱液逐渐加入到模具空间中,将容器放置在80‑200℃加热面板上加热,生长过程中间隔在容器中加入抗溶剂,生长1‑96h后,取出基片;将基片以500‑6000r/s的速度旋转10‑60s,旋干薄膜,放置到80‑200℃的加热面板上退火5‑120min。
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