[发明专利]一种多离子源溅射生产薄膜的装置及方法在审
| 申请号： | 201710196778.8 | 申请日： | 2017-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN106939409A | 公开（公告）日： | 2017-07-11 |
| 发明（设计）人： | 刘伟基;冀鸣;陈蓓丽 | 申请（专利权）人： | 中山市博顿光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/50;C23C14/54 |
| 代理公司： | 广州市红荔专利代理有限公司44214 | 代理人： | 吝秀梅,李彦孚 |
| 地址： | 528437 广东省中山市火炬*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种多离子源溅射生产薄膜的装置及方法，该装置包括真空腔室及置于真空腔室内的靶材、离子源和产品平台；靶材及离子源均为多个且一一对应，靶材及离子源的类型能调整且两者均位于产品平台的上方，产品平台能旋转；每个离子源用于向对应的靶材溅射离子源束流，产品平台用于对从所有靶材脱离的材料分子沉积成薄膜。本发明通过将靶材及离子源均设置为多个且一一对应，通过控制离子源溅射对应类型的靶材的先后顺序，即能实现制造单层薄膜、多层薄膜及单层混合薄膜的要求，该装置在制膜过程中能将同一类型的离子源设置为多个，以提高靶材材料的沉积速度，通过调整靶材及离子源的类型，即能改变制造的单层混合薄膜中的材料成分。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子源 溅射 生产 薄膜 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种多离子源溅射生产薄膜的装置，其特征在于，包括真空腔室(1)及置于真空腔室(1)内的靶材(3)、离子源(4)和产品平台(2)；靶材(3)及离子源(4)均为多个且一一对应，靶材(3)及离子源(4)的类型能调整且两者均位于产品平台(2)的上方，产品平台(2)能旋转；每个离子源(4)用于向对应的靶材(3)溅射离子源束流，产品平台(2)用于对从所有靶材(3)脱离的材料分子沉积成薄膜。
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