[发明专利]一种用于提高蒸发束流稳定性的坩埚和具有该坩埚的源炉有效
| 申请号： | 201710201152.1 | 申请日： | 2017-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN106893981B | 公开（公告）日： | 2019-01-25 |
| 发明（设计）人： | 聂越峰;毛张文 | 申请（专利权）人： | 南京大学 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C30B23/02 |
| 代理公司： | 江苏瑞途律师事务所 32346 | 代理人： | 蒋海军 |
| 地址： | 210046 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明的一种用于提高蒸发束流稳定性的坩埚和具有该坩埚的源炉，属于薄膜生长技术领域。其中本发明的一种用于提高蒸发束流稳定性的坩埚，坩埚设置为直筒形，且坩埚顶部外壁与坩埚底部外壁等径，用于减少坩埚顶部的热辐射；坩埚顶部设置有定位垫片，定位垫片用于固定坩埚顶部。本发明的一种提高蒸发束流稳定性的源炉，包括坩埚、蒸发源和加热单元，坩埚设置于蒸发源内，坩埚的外部设置有加热单元，该加热单元用于对坩埚进行加热，坩埚为上述的坩埚。本发明减小束流挡板开启或者关闭对坩埚温度的影响，提高坩埚温度的稳定性及束流的稳定性，减小热辐射的量以降低坩埚温度的波动，更加稳定控制束流以制备更高质量的薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 提高 蒸发 稳定性 坩埚 具有 | ||
【主权项】：
1.一种用于提高蒸发束流稳定性的坩埚，其特征在于：坩埚(100)设置为直筒形，且没有顶部的外沿，且坩埚顶部(110)外壁与坩埚底部(120)外壁等径，用于减少坩埚顶部(110)的热辐射；坩埚顶部(110)设置有定位垫片(130)，定位垫片(130)用于固定坩埚顶部(110)，定位垫片(130)材料的黑度系数小于坩埚(100)材料的黑度系数。
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