[发明专利]一种适用于光学测量系统的外标校用靶标及其使用方法在审

专利信息
申请号: 201710207272.2 申请日: 2017-03-31
公开(公告)号: CN106839988A 公开(公告)日: 2017-06-13
发明(设计)人: 何文杰;邓友银;王晨晨 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第三十八研究所
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00
代理公司: 合肥市浩智运专利代理事务所(普通合伙)34124 代理人: 张景云
地址: 230000 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供一种适用于光学测量系统的外标校用靶标及其使用方法,包括靶标基体;在所述标靶基体上设置有锥窝、标示图、标示图定位孔;所述标示图设置在靶标基体正中,以标识图定位孔为中心定位点;激光跟踪仪靶球放置在锥窝内。在所述基体的各边沿还均布有安装孔,用于靶标的安装固定。与现有技术相比,本发明外标校用靶标可以更加精确地安装在被测装备上;在使用本发明时,可以通过精确测量出靶标上各锥窝中心点的坐标值,再推算获得靶标上标示图中心点的空间坐标,识别准确性高。本发明设计新颖,系统使用方便,便于推广使用。
搜索关键词: 一种 适用于 光学 测量 系统 外标校用 靶标 及其 使用方法
【主权项】:
一种适用于光学测量系统的外标校用靶标,其特征在于:包括靶标基体(1);在所述标靶基体(1)上设置有锥窝(2)、标示图(3)、标示图定位孔(5);所述标示图(3)设置在靶标基体(1)正中,以标识图定位孔(5)为中心定位点;激光跟踪仪靶球(4)放置在锥窝(2)内;在所述基体(1)的各边沿还均布有安装孔(6),用于靶标的安装固定。
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