[发明专利]反射式光子晶体彩膜、使用其的显示器件及其制造方法在审
申请号: | 201710207768.X | 申请日: | 2017-03-31 |
公开(公告)号: | CN106773279A | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 孟宪芹;杨亚锋;吕敬;陈小川;王维;谭纪风;孟宪东;田允允;高健 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司11438 | 代理人: | 邢雪红,王卫忠 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本公开提供一种反射式光子晶体彩膜、使用其的显示器件及其制造方法。反射式光子晶体彩膜包括基底;形成在基底上且在基底表面上周期性分布的二维光子晶体结构,其中所述二维光子晶体结构由包含硅的材料构成。通过设计调整二维光子晶体结构的几何参数和薄膜厚度,实现仅红、绿、蓝、青、黄五色被反射。本公开的光子晶体彩膜将不仅能替代传统彩膜基底,而且能拓宽色域,实现传统彩膜难以实现的青色和黄色补色出光,结合RGB三基色彩膜,实现RGBCY五色,还原自然颜色,从而实现更加逼真的显示画面。同时通过优化二维光子晶体结构的各个几何参数,使RGB对应的频谱宽度较传统彩膜窄,实现相对较高的色饱和度,从而实现显示的画面更加鲜艳。 | ||
搜索关键词: | 反射 光子 晶体 使用 显示 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种反射式光子晶体彩膜,包括;基底;形成在基底上且在基底表面上周期性分布的二维光子晶体结构,其中所述二维光子晶体结构由包含硅的材料构成。
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