[发明专利]基底台系统、光刻设备和光刻方法有效
| 申请号： | 201710210545.9 | 申请日： | 2017-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN108663907B | 公开（公告）日： | 2019-12-24 |
| 发明（设计）人： | 吴立伟;郭琳;池峰;杨晓峰 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基底台系统、光刻设备和光刻方法，基地台系统中的工件台系统包括一基底曝光工位，位于光刻机的曝光区域；一转接台，位于所述基底曝光工位的一侧；至少两个微动台，用于承载基底；一粗动台，用于带动所述微动台在所述基底曝光工位上移动；当一个微动台位于所述转接台上进行基底交接时，所述粗动台带动另一个微动台移动至所述基底曝光工位上，使得位于该微动台上的基底曝光。则本发明提供的工件台系统中仅需在基底曝光工位一侧设置用于放置转接台以及一个微动台的空间，因此相对于现有技术，本发明提供的工件台系统并未占用较大的空间，节省了占地成本。 | ||
| 搜索关键词： | 基底曝光 微动台 工位 工件台系统 转接 光刻设备 基底台 光刻 基底 基地台系统 曝光区域 光刻机 上移动 微动 承载 交接 占用 移动 | ||
【主权项】：
1.一种基底台系统，所述基底台系统包括基底曝光工位、基底传输工位和基底测量工位，其特征在于，所述基底台系统还包括：/n至少两个微动台，用于承载基底轮流在所述基底传输工位、所述基底测量工位和所述基底曝光工位完成工序；/n一转接台，包括所述基底传输工位和所述基底测量工位，所述基底传输工位和所述基底测量工位并列且皆紧邻所述基底曝光工位，任一所述微动台可在所述转接台上移动以完成基底传输和基底测量；/n一粗动台，任一所述微动台可在所述转接台与所述粗动台之间进行交换，以完成在所述基底曝光工位与所述基底传输工位间的移动和/或在所述基底测量工位与所述基底曝光工位间的移动。/n
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