[发明专利]激光干涉仪反射镜形貌测量方法和光刻装置有效
| 申请号： | 201710210551.4 | 申请日： | 2017-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN108663908B | 公开（公告）日： | 2019-11-22 |
| 发明（设计）人： | 黄阳;韩春燕;王献英 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01B11/24 |
| 代理公司： | 31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 屈蘅;李时云<国际申请>=<国际公布>= |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种激光干涉仪反射镜形貌测量方法和光刻装置，测量方法包括：使基底上产生至少两个光斑，记录此时所有光斑的垂向高度；将工件台在水平面上在同一个方向上移动若干次，每次移动时，使得其中一个光斑移动至另一个光斑在移动前所在的位置，将另一个光斑在移动前所在的垂向高度减去一个光斑在移动后所在的垂向高度得到的差值即为长条镜上相应的点的高度变化，若干个长条镜上的点的高度变化组成了长条镜的镜面在该方向上形貌变化。本发明去掉了用于校准的标准干涉仪，方便在装配好的光刻机上使用；设置了间距并不一定相等的至少两个光斑，既提高了测量精度又不会大幅度增加FLS的光斑个数；减少了基底测量区域，使校准花费的时间更短。 | ||
| 搜索关键词： | 光斑 垂向 激光干涉仪 移动 高度变化 光刻装置 形貌测量 校准 反射镜 测量 光斑移动 基底测量 形貌变化 镜面 干涉仪 工件台 上移动 光刻 基底 减去 相等 装配 记录 | ||
【主权项】：
1.一种激光干涉仪反射镜形貌测量方法，所述反射镜用于测定工件台高度，其特征在于，包括以下步骤：/n向位于工件台上的基底照射光，使所述基底上产生两个以上的光斑；/n将所述工件台保持高度固定并沿同一个方向移动若干次，每次移动时，使得其中一个光斑移动至另一个光斑在移动前的所在位置，记录每次移动前后所述基底上光斑处的垂向高度，通过对所述基底同一位置上在移动前后产生的至少两个光斑处的垂向高度的差值处理，得到移动前后反射镜上对应位置的形貌。/n
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