[发明专利]双面显像投影系统、方法及其应用的立体影像投影系统有效
申请号: | 201710223787.1 | 申请日: | 2017-04-07 |
公开(公告)号: | CN108693694B | 公开(公告)日: | 2021-04-06 |
发明(设计)人: | 陈韦廷 | 申请(专利权)人: | 陈韦廷 |
主分类号: | G03B21/604 | 分类号: | G03B21/604;G03B35/26 |
代理公司: | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人: | 许志勇;程爽 |
地址: | 中国台湾新北市三重*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种双面显像投影系统,通过第一偏光投影设备投射具有第一偏振方向的第一影像光线于双面可透视偏光膜的一侧,第二偏光投影设备投射具有第一偏振方向的第二影像光线于双面可透视偏光膜的另一侧,其中,双面可透视偏光膜的一面上的第一反射粉末层接收并漫反射具有第一偏振方向的第一影像光线,双面可透视偏光膜的另一面上的第二反射粉末层接收并漫反射具有第一偏振方向的第二影像光线,双面可透视偏光膜的偏光层的透射轴被设置与第一偏振方向相互垂直而不透射具有第一偏振方向的第一影像光线与第二影像光线,用以实现可双面投影成像的技术功效。 | ||
搜索关键词: | 双面 显像 投影 系统 方法 及其 应用 立体 影像 | ||
【主权项】:
1.一种双面显像投影系统,其特征在于,包含:第一偏光投影设备,用以投射具有第一偏振方向的第一影像光线;第二偏光投影设备,用以投射具有所述第一偏振方向的第二影像光线;以及双面可透视偏光膜,配置于所述第一偏光投影设备与所述第二偏光投影设备之间,所述双面可透视偏光膜包含:第一反射粉末层、第二反射粉末层与偏光层,所述偏光层配置于所述第一反射粉末层与所述第二反射粉末层之间,所述第一反射粉末层用以接收并漫反射具有所述第一偏振方向的所述第一影像光线,所述第二反射粉末层用以接收并漫反射具有所述第一偏振方向的所述第二影像光线,所述偏光层具有透射轴,所述透射轴与所述第一偏振方向相互垂直。
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