[发明专利]单晶炉的锅跟比调节方法及锅跟比调节装置有效
| 申请号： | 201710225265.5 | 申请日： | 2017-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN106906513B | 公开（公告）日： | 2019-03-22 |
| 发明（设计）人： | 杨晓红;朱伟忠;苏晓良;周杰;沈浩锋;王宏琳;平志韩 | 申请（专利权）人： | 天通吉成机器技术有限公司 |
| 主分类号： | C30B15/28 | 分类号： | C30B15/28;C30B29/06 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李海建 |
| 地址： | 314400 浙江省嘉兴*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种单晶炉的锅跟比调节方法，包括：根据当前时刻坩埚内的剩余料重量得到当前时刻坩埚内的剩余料体积；根据所述坩埚内的剩余料体积和所述坩埚的内部尺寸得到当前时刻的所述坩埚内的液面位置；根据所述坩埚内的液面位置和对应该液面位置的计算公式得到当前时刻的理论锅跟比；根据当前时刻所述理论锅跟比调整所述坩埚的提升速度，使所述坩埚的当前时刻的实际锅跟比接近所述理论锅跟比。本锅跟比调节方法通过坩埚内的剩余料重量来实时动态控制坩埚速度，避免锅跟比过小或者过大影响晶体生长。本申请还公开了一种基于该锅跟比调节方法的锅跟比调节装置。 | ||
| 搜索关键词： | 单晶炉 调节 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种单晶炉的锅跟比调节方法，其特征在于，包括：根据当前时刻坩埚内的剩余料重量得到当前时刻坩埚内的剩余料体积；根据所述坩埚内的剩余料体积和所述坩埚的内部尺寸得到当前时刻的所述坩埚内的液面位置；根据所述坩埚内的液面位置和对应该液面位置的计算公式得到当前时刻的理论锅跟比；根据当前时刻所述理论锅跟比调整所述坩埚的提升速度，使所述坩埚的当前时刻的实际锅跟比接近所述理论锅跟比。
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