[发明专利]分段两点相关自线性光谱基线校正方法在审

专利信息
申请号: 201710228596.4 申请日: 2017-04-10
公开(公告)号: CN106908394A 公开(公告)日: 2017-06-30
发明(设计)人: 赵安新 申请(专利权)人: 西安科技大学
主分类号: G01N21/27 分类号: G01N21/27
代理公司: 陕西增瑞律师事务所61219 代理人: 刘艳霞
地址: 710054*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开分段两点相关自线性光谱基线校正方法,包括如下步骤步骤一、确定对所有目标组分都不敏感或者灵敏度非常低的谱图区间作为非敏感区。步骤二、分别计算每一个非敏感区的透射率光谱值的均值,并确定出每一个非敏感区内与对应的所述透射率光谱值的均值最接近的谱线a,确定谱线a的光谱值。步骤三、分别选取相邻两个谱线a,计算相邻两个谱线a间区域的基线校正常数值和相关系数;两端区域的基线校正常数值和相关系数与其相邻的区域相一致。该分段两点相关自线性光谱基线校正方法提高了光谱定性、定量分析的准确性,提高光谱分析中组分的识别精度;省时、省力,降低对光谱操作员或者分析员的技术要求。
搜索关键词: 分段 两点 相关 线性 光谱 基线 校正 方法
【主权项】:
分段两点相关自线性光谱基线校正方法,其特征在于,该校正方法包括如下步骤:步骤一、确定对所有目标组分都不敏感或者灵敏度非常低的谱图区间作为非敏感区;步骤二、分别计算每一个非敏感区的透射率光谱值的均值,并确定出每一个非敏感区内与对应的所述透射率光谱值的均值最接近的谱线a,确定谱线a的光谱值,并将谱线a作为对应非敏感区内选中的谱线;步骤三、分别选取相邻两个谱线a,计算相邻两个谱线a间区域的基线校正常数值和相关系数;两端区域的基线校正常数值和相关系数与其相邻的区域相一致。
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