[发明专利]一种磁控溅射镀膜系统及利用其制备高纯度靶膜的方法在审
| 申请号： | 201710232108.7 | 申请日： | 2017-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN106978597A | 公开（公告）日： | 2017-07-25 |
| 发明（设计）人： | 刘城淋;杨洪广;占勤;刘振兴 | 申请（专利权）人： | 中国原子能科学研究院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 102413 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于合金镀膜技术领域，涉及一种磁控溅射镀膜系统及利用其制备高纯度靶膜的方法。所述的磁控溅射镀膜系统包括镀膜腔室、用于向镀膜腔室提供磁控溅射载气氩气的氩气提供系统、用于对镀膜腔室进行抽真空处理的抽真空系统，镀膜腔室中包括溅射靶、可通过电机带动旋转的转盘、位于转盘上的样品架，溅射靶可向正对其的样品架上安装的基片进行磁控溅射镀膜，其中所述的溅射靶为多个，分别为不同金属或不同组成比例合金的溅射靶。用本发明的磁控溅射镀膜系统及利用其制备高纯度靶膜的方法，可在基片上镀制不同成分、含量的金属膜或合金膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 镀膜 系统 利用 制备 纯度 方法 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射镀膜系统，包括镀膜腔室、用于向镀膜腔室提供磁控溅射载气氩气的氩气提供系统、用于对镀膜腔室进行抽真空处理的抽真空系统，镀膜腔室中包括溅射靶、可通过电机带动旋转的转盘、位于转盘上的样品架，溅射靶可向正对其的样品架上安装的基片进行磁控溅射镀膜，其特征在于：所述的溅射靶为多个，分别为不同金属或不同组成比例合金的溅射靶。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国原子能科学研究院，未经中国原子能科学研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710232108.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种单分散纳米环及其制备方法
- 下一篇：变电检修架
- 同类专利
- 专利分类
