[发明专利]一种磁屏蔽室的设计方法及系统有效
| 申请号： | 201710233471.0 | 申请日： | 2017-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN106845045B | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | 孔祥燕;王美玲;杨瑞虎;陈威;鲁丽 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | G06F30/13 | 分类号： | G06F30/13;G06F30/23;H05K9/00 |
| 代理公司： | 上海泰能知识产权代理事务所 31233 | 代理人： | 宋缨 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种磁屏蔽室的设计方法及系统，包括以下步骤：基于确定的屏蔽空间，构建具有多层屏蔽层的磁屏蔽室的机械模型；基于所述机械模型，根据不同的相邻屏蔽层的间隔，计算对应的磁屏蔽室内部中心处的屏蔽效能，获取相邻屏蔽层的最佳间隔；基于所述机械模型，确定多层屏蔽层的总厚度，计算不同的屏蔽层的厚度比所对应的磁屏蔽室内部中心处的屏蔽效能，获取各屏蔽层的最佳厚度。本发明的磁屏蔽室的设计方法及系统能够指导磁屏蔽室的实际搭建，以满足屏蔽空间内局部高指标的要求，并降低搭建成本，便于实际的推广使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 屏蔽 设计 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种磁屏蔽室的设计方法，其特征在于：包括以下步骤：基于确定的屏蔽空间，构建具有多层屏蔽层的磁屏蔽室的机械模型；基于所述机械模型，根据不同的相邻屏蔽层的间隔，计算对应的磁屏蔽室内部中心处的屏蔽效能，获取相邻屏蔽层的最佳间隔；基于所述机械模型，确定多层屏蔽层的总厚度，计算不同的屏蔽层的厚度比所对应的磁屏蔽室内部中心处的屏蔽效能，获取各屏蔽层的最佳厚度。
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