[发明专利]一种双地槽平行微带线90度相位移相器在审
申请号: | 201710245811.1 | 申请日: | 2017-04-14 |
公开(公告)号: | CN107425288A | 公开(公告)日: | 2017-12-01 |
发明(设计)人: | 何进;陈鹏伟;王豪;刘峰 | 申请(专利权)人: | 武汉大学 |
主分类号: | H01Q3/34 | 分类号: | H01Q3/34;H01P1/18 |
代理公司: | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙)42222 | 代理人: | 彭艳君 |
地址: | 430072 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明涉及毫米波无线通信技术,特别涉及一种双地槽平行微带线90度相位移相器,采用工艺130nm SiGe BiCMOS;包括地金属层和顶层金属层,输入、输出端口,电介质层和衬底层,还包括地金属层中心设置一条底层金属传输线,同时在顶层金属层上设置一条平行对称的顶层金属传输线;底层金属传输线与顶层金属传输线中心设置有180度相位反相器;地金属层上以底层金属传输线中线为轴设置两平行对称沟槽,输入端口与顶层金属传输线和底层金属传输线的左端连接,输出端口与顶层金属传输线和底层金属传输线的右端连接;电介质层包围在地金属层和顶层金属层的底部和外围,衬底层设置于电介质层底部。该移相器提高了信号带宽、降低了电路面积和相位误差、减小了信号损耗。 | ||
搜索关键词: | 一种 地槽 平行 微带 90 相位 移相器 | ||
【主权项】:
一种双地槽平行微带线90度相位移相器,采用工艺130nm SiGe BiCMOS;包括地金属层和顶层金属层,输入、输出端口,电介质层和衬底层,其特征在于,还包括地金属层中心设置一条底层金属传输线,同时在顶层金属层上设置一条平行对称的顶层金属传输线;底层金属传输线与顶层金属传输线中心设置有180度相位反相器;地金属层上以底层金属传输线中线为轴设置两平行对称沟槽,输入端口与顶层金属传输线和底层金属传输线的左端连接,输出端口与顶层金属传输线和底层金属传输线的右端连接;电介质层包围在地金属层和顶层金属层的底部和外围,衬底层设置于电介质层底部。
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