[发明专利]一种双功能柱对称大尺寸高均匀性线型磁控靶镀膜设备

摘要

本发明涉及一种双功能柱对称大尺寸高均匀性线型磁控靶镀膜设备。该设备在圆形真空腔中心安放用于夹持凸形柱面镜的转动轴，在外围安装用于安放凹形柱面镜的转动圆环，在转动圆环和转动轴之间安放竖直摆放的线型磁控溅射靶枪，靶枪前安放有可以旋转的气动挡板。通过改变靶枪朝向和调整靶枪在真空腔内的径向位置，可使靶枪分别指向转动圆环和转动轴，并对安装在转动圆环上的凹形柱面镜或者是安装在转动轴上的凸形柱面镜进行镀制。通过改变靶枪前的气动挡板的开关以及转动圆环和转动轴的转动速率完成对薄膜制备工艺的控制。

主权项

一种双功能柱对称大尺寸高均匀性线型磁控靶镀膜设备，由真空腔体、转动圆环、样品架、磁控溅射靶枪、气动挡板和靶枪基座组成，其特征在于：柱状的真空腔体内设置有转动圆环支撑柱，所述转动圆环支撑柱由外层柱套和内层转动块组成，外层柱套固定于真空腔体底部,内层转动块顶部设有可调整转速的转动圆环，内层转动块的底部连接步进电机，转动圆环上安放有样品架，用于安装样品；所述转动轴固定于真空腔体底部，转动轴穿过转动圆环，且转动轴、转动圆环和真空腔体同轴布置；转动轴上安装有样品；所述转动轴通过磁流体轴与电机相连，可控制自转速度；真空腔体内底部设有三个导轨，导轨上设有靶枪基座，两两间隔90度，即分别安装于真空腔体的3点钟、6点钟和9点钟方向；磁控溅射靶枪位于靶枪基座上，所述三个磁控溅射靶枪穿过转动圆环的空心部分，导轨上不同位置设有螺丝孔，当三个靶枪基座设置于不同的螺丝孔位置时，可以调整磁控溅射靶枪与转动圆环或转动轴的相对位置，气动挡板连接件固定于靶枪基座上，气动挡板通过气动挡板连接件连接气动快门，完成气动挡板的开关控制，气动挡板位于磁控溅射靶枪的内侧，通过变换气动挡板的开关，控制磁控溅射靶枪的测射粒子是否沉积到基底上。