[发明专利]一种微测辐射热计的氧化钛热敏薄膜的制备方法在审
| 申请号： | 201710248921.3 | 申请日： | 2017-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN106987814A | 公开（公告）日： | 2017-07-28 |
| 发明（设计）人： | 杨鑫;王宏臣;陈文礼;王鹏;甘先锋;董珊;孙丰沛 | 申请（专利权）人： | 烟台睿创微纳技术股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/08;C23C14/58 |
| 代理公司： | 烟台上禾知识产权代理事务所(普通合伙)37234 | 代理人： | 刘志毅 |
| 地址： | 264006 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种微测辐射热计的氧化钛热敏薄膜的制备方法，包括以下步骤：步骤1：对待沉积氧化钛薄膜的晶圆进行清洁处理；步骤2：提供一真空腔体，该真空腔体内具有钛靶材和待沉积氧化钛的晶圆，所述晶圆的衬底温度控制在10～200℃；步骤3：调整真空腔体的温度，使其温度控制在10～100℃，同时通入氩气和氧气，其中氧气占总气体的比例不低于0.5％，且低于10％，总气体流量保持在50～150sccm；步骤4：预溅射钛靶材5～10min，去除钛靶材表面的氧化层；步骤5：进行反应溅射，使用离子束轰击钛靶材，使钛溅射到晶圆表面，钛和真空腔体中的氧气或氧离子反应，生成氧化钛薄膜；步骤6：退火处理。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 辐射热 氧化 热敏 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种微测辐射热计的氧化钛热敏薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1：对待沉积氧化钛薄膜的晶圆进行清洁处理；步骤2：提供一真空腔体，该真空腔体内具有钛靶材，并将清洁处理之后的晶圆放入所述真空腔体中，所述晶圆的衬底温度控制在10～200℃；步骤3：调整真空腔体的温度，使其温度控制在10～100℃，同时通入氩气和氧气，其中氧气占总气体流量的比例不低于0.5％，且低于10％，总气体流量保持在50～150sccm；步骤4：预溅射钛靶材5～10min，去除钛靶材表面的氧化层；步骤5：进行反应溅射，使用离子束轰击钛靶材，使钛溅射到晶圆表面，钛和腔体中的氧气或氧离子反应，生成氧化钛薄膜。
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