[发明专利]一种基于石墨烯硅倒金字塔阵列肖特基光伏电池制造方法在审
申请号: | 201710250816.3 | 申请日: | 2017-04-18 |
公开(公告)号: | CN107104165A | 公开(公告)日: | 2017-08-29 |
发明(设计)人: | 陈秀华;尚钰东;马文会 | 申请(专利权)人: | 云南大学 |
主分类号: | H01L31/07 | 分类号: | H01L31/07;H01L31/0236;H01L31/0224;H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 650091 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 一种基于石墨烯硅倒金字塔阵列肖特基光伏电池制造方法,在单晶n‑Si半导体衬底上热氧化生成氧化硅(SiO2)作为隔离层,用氢氟酸HF腐蚀SiO2隔离层形成窗口,将窗口外围的SiO2隔离层和半导体背面用绝缘胶布贴覆保护起来,在窗口内采用金属辅助化学刻蚀方法制备出硅倒金字塔阵列,撕掉绝缘胶布并清洗干净,在衬底背面涂抹In/Ga合金作为背电极,在隔离层上蒸发沉积金属Au作为前电极,最后将石墨烯转移到硅倒金字塔阵列上并与前电极相连。该太阳能电池结构简单,易于制备,成本低廉,不仅可以有效减少入射光的反射,而且增大了肖特基结接触面积,从而达到提高太阳能电池转换效率的目的。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 石墨 烯硅倒 金字塔 阵列 肖特基光伏 电池 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种石墨烯硅倒金字塔阵列肖特基结光伏电池,其特征在于,包括单晶n‑Si衬底(1), 单晶n‑Si衬底(1)上面热氧化生长有SiO2隔离层(2),在单晶硅衬底(1)背面涂抹In/Ga合金作为背电极(3),在SiO2隔离层(2)上开窗口形成有效肖特基结区,在结区中制备有硅倒金字塔阵列(4),在SiO2隔离层(2)的窗口周围沉积金属Au作为前电极(5),并将石墨烯薄膜(6) 硅倒金字塔阵列(4)上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的