[发明专利]一种制备纳米光栅的装置和方法有效

专利信息
申请号: 201710253240.6 申请日: 2017-04-18
公开(公告)号: CN106918857B 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 侯想;仇凯弘;陈峰;欧金亮 申请(专利权)人: 福建中晶科技有限公司
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18
代理公司: 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 代理人: 姚壮
地址: 364000 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开了一种制备纳米光栅的装置,包括安装底座和L形安装支架,且L形安装支架固定焊接在安装底座的一侧顶部,所述安装底座的底部固定焊接有支撑架,所述安装底座的顶部固定安装有电机,所述电机的输出轴连接有第二转动连接件,所述第二转动连接件远离电机的一端设有匀胶台,所述第二转动连接件与匀胶台转动连接。本发明提出的一种制备纳米光栅的装置,结构简单,设计合理,利用匀胶台完成光刻胶旋涂工序,利用电子束曝光机、中间掩膜版、聚光透镜和反射镜完成基片的曝光工作,本发明提出的装置用于制备纳米光栅,设备投资小,制备成本低,操作简单,易于控制,制备周期短,所得纳米光栅性能好、质量高,成品合格率高,值得推广。
搜索关键词: 一种 制备 纳米 光栅 装置 方法
【主权项】:
一种制备纳米光栅的装置,包括安装底座(1)和L形安装支架(2),且L形安装支架(2)固定焊接在安装底座(1)的一侧顶部,其特征在于,所述安装底座(1)的底部固定焊接有支撑架(19),所述安装底座(1)的顶部固定安装有电机(18),所述电机(18)的输出轴连接有第二转动连接件(17),所述第二转动连接件(17)远离电机(18)的一端设有匀胶台(16),所述第二转动连接件(17)与匀胶台(16)转动连接,所述L形安装支架(2)靠近匀胶台(16)的一侧设有第一滑槽(5),所述第一滑槽(5)内设有推杆电机(6),且第一滑槽(5)与推杆电机(6)滑动连接,所述推杆电机(6)的输出轴固定连接有安装支架(7),所述安装支架(7)的底端固定焊接有储胶室(4),且所述储胶室(4)的下方设有出胶口(3),所述L形安装支架(2)靠近匀胶台(16)的一侧固定安装有电子束曝光机(8),且电子束曝光机(8)位于推杆电机(6)的上方,所述L形安装支架(2)的顶部靠近匀胶台(16)的一侧设有第二滑槽(9),所述第二滑槽(9)内设有第一滑块(10)和第二滑块(11),所述第一滑块(10)和第二滑块(11)均匀第二滑槽(9)滑动连接,所述第一滑块(10)远离第二滑槽(9)的一端固定连接有中间掩膜版(12),所述第二滑块(11)远离第二滑槽(9)的一端固定连接有聚光透镜(13),所述L形安装支架(2)的顶部远离电子束曝光机(8)的一端底部固定安装有第一转动连接件(14),所述第一转动连接件(14)的底端设有反射镜(15),且所述第一转动连接件(14)与反射镜(15)转动连接。
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