[发明专利]光学建模方法及其电子装置在审
申请号: | 201710255226.X | 申请日: | 2017-04-18 |
公开(公告)号: | CN108733854A | 公开(公告)日: | 2018-11-02 |
发明(设计)人: | 王世昌;施威文;徐斌皓 | 申请(专利权)人: | 光宝电子(广州)有限公司;光宝科技股份有限公司 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 马雯雯;臧建明 |
地址: | 510663 广东省广州市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种用以建立目标透镜模型的光学建模方法,包括以下步骤。依据光源的空间光强度分布以及第一目标光强度分布,计算并产生第一透镜模型。导入光源的外型,并依据空间光强度分布以及第一透镜模型,计算第一光强度分布。比较第一目标光强度分布以及第一强度分布的第一差异度。若第一差异度不大于预设阀值,以第一透镜模型作为目标透镜模型。若第一差异度大于预设阀值,依据第一差异度修正第一目标光强度分布为第二目标光强度分布,并依据光源的空间光强度分布以及第二目标光强度分布,计算并产生第二透镜模型。据此,可节省目标透镜模型的设计时间。 | ||
搜索关键词: | 光强度分布 强度分布 透镜模型 差异度 目标透镜 空间光 光源 光学建模 预设 电子装置 外型 修正 | ||
【主权项】:
1.一种光学建模方法,适于电子装置并用以建立目标透镜模型,其特征在于,所述光学建模方法包括:依据光源的空间光强度分布以及第一目标光强度分布,计算并产生第一透镜模型;导入所述光源的外型,并依据所述空间光强度分布以及所述第一透镜模型,计算第一光强度分布;比较所述第一目标光强度分布以及所述第一强度分布的第一差异度;若所述第一差异度不大于预设阀值,以所述第一透镜模型作为所述目标透镜模型;以及若所述第一差异度大于所述预设阀值,依据所述第一差异度修正所述第一目标光强度分布为第二目标光强度分布,并依据所述光源的所述空间光强度分布以及所述第二目标光强度分布,计算并产生第二透镜模型。
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