[发明专利]一种类金刚石复合薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201710270329.3 | 申请日： | 2017-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN107083536B | 公开（公告）日： | 2019-11-29 |
| 发明（设计）人： | 陈立;吴德生;朱得菊 | 申请（专利权）人： | 信利光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06 |
| 代理公司： | 11227 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵青朵<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 516600 广东省汕*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种类金刚石复合薄膜，包括SiNx膜层和含氢DLC膜层；其中，0.5≤x≤1.3。本发明提供的类金刚石复合薄膜不仅具有良好的光学特性，同时还具有良好的硬度和耐磨性，能够适用于对光学和机械性能均有要求的器件。本发明还提供了一种类金刚石复合薄膜的制备方法，按照本发明的制备方法制得的类金刚石复合薄膜同时兼具良好的光学特性和高硬度耐磨等机械性能。 | ||
| 搜索关键词： | 机械性能 类金刚石复合薄膜 金刚石 复合薄膜 光学特性 制备 耐磨性 高硬度 耐磨 申请 | ||
【主权项】：
1.一种类金刚石复合薄膜，其特征在于，包括SiNx膜层和含氢DLC膜层；/n其中，0.8≤x≤1.2；/n所述SiNx膜层的厚度为6～15nm；/n所述类金刚石复合薄膜通过以下制备方法制得：/na)将硅靶材在混合气体环境中进行磁控溅射，在衬底上沉积得到SiNx膜层；/n所述混合气体为氩气和氮气；氩气和氮气的体积比为(1～2)：1；/n所述磁控溅射的气压为2.5～6.5mTorr；/n所述磁控溅射的溅射功率为600～1200W；/nb)以石墨为靶材在混合气体环境中进行磁控溅射，在所述SiNx膜层表面沉积形成含氢DLC膜层，得到类金刚石复合薄膜；/n所述混合气体为氩气和氢气；氩气与氢气的体积比为(1～3)：1；所述混合气体的气压为2.5～6.5mTorr。/n
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