[发明专利]等离子体装置有效

专利信息
申请号: 201710271263.X 申请日: 2017-04-24
公开(公告)号: CN107452588B 公开(公告)日: 2019-04-30
发明(设计)人: 吉村拓也;小泉雅史;井出光太郎;芦高优 申请(专利权)人: 丰田自动车株式会社
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 高培培;车文
地址: 日本爱知*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及等离子体装置。利用等离子体对工件的一部分进行成膜或蚀刻的等离子体装置具备:真空容器,具备第一模和第二模,所述第一模具备第一凹陷部和配置于第一凹陷部的周围的第一平面部,所述第二模与第一模对向地配置;绝缘部件,配置于第一平面部与第二模之间,在使工件的被处理对象部分朝向第一凹陷部内的空间并且使工件从第一平面部离开的状态下与工件接触;以及电力施加部,向工件施加电力。工件与绝缘部件间的接触点中的最靠近所述第一平面部的接触点和第一平面部之间的距离小于工件和第一凹陷部的底部之间的距离。
搜索关键词: 等离子体 装置
【主权项】:
1.一种等离子体装置,构成为利用等离子体对工件的一部分进行成膜或蚀刻,其特征在于,所述等离子体装置包括:真空容器,具备第一模和第二模,所述第一模具备第一凹陷部和配置于所述第一凹陷部的周围的第一平面部,所述第二模与所述第一模对向地配置;绝缘部件,配置于所述第一模的所述第一平面部与所述第二模之间,在使所述工件的被处理对象部分朝向所述第一凹陷部内的空间并且使所述工件从所述第一平面部离开的状态下与所述工件接触;以及电力施加部,向所述工件施加电力,其中,所述工件与所述绝缘部件间的接触点中的最靠近所述第一平面部的接触点和所述第一平面部之间的距离(A1)小于所述工件和所述第一凹陷部的底部之间的距离。
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