[发明专利]微结构基板及制造方法、显示装置有效
| 申请号： | 201710271727.7 | 申请日： | 2017-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN107132599B | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 杨勇 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02;G02B1/18 |
| 代理公司： | 44280 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种微结构基板及制造方法、显示装置，方法包括：在衬底基板上涂布一层耐指纹膜层；在耐指纹膜层上溅射二氧化硅层；对二氧化硅层进行蚀刻，以制备出具有多个圆弧凹陷微结构的二氧化硅层。通过上述方式，本发明能够改善微结构对高解析度面板画质的影响，减少画质的模糊程度，使得基板在高解析度面板上使用成为可能。 | ||
| 搜索关键词： | 微结构 制造 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种微结构基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：/n在衬底基板上涂布一层耐指纹膜层；/n在所述耐指纹膜层上溅射二氧化硅层；/n对所述二氧化硅层进行蚀刻，以制备出具有多个圆弧凹陷微结构的二氧化硅层；其中，所述微结构宽度为5μm～25μm，深度和宽度之比为0.05～0.15，切线与水平方向的夹角为5°～20°；/n所述耐指纹层的主体材料为水溶性树脂，且具耐酸性。/n
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