[发明专利]UB2薄膜在黑腔上的应用有效
| 申请号： | 201710272260.8 | 申请日： | 2017-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN107068205B | 公开（公告）日： | 2019-03-26 |
| 发明（设计）人： | 邢丕峰;李宁;柯博;李翠;易泰民;杨蒙生;郑凤成;王丽雄;赵利平 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | G21B1/11 | 分类号： | G21B1/11;C23C14/06 |
| 代理公司： | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人： | 侯静 |
| 地址： | 621900*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | UB2薄膜在黑腔上的应用，它属于激光聚变工程技术领域，具体涉及一种兼具黑腔减散和防护作用的UB2薄膜的应用。本发明目的是为了解决现有铀黑腔结构复杂、Au/B减散层化学稳定性差、组分比例及分布调控困难的问题。UB2薄膜作为减散/防护层替代黑腔Au/B减散层和Au防护层应用于黑腔上。优点：UB2薄膜用于黑腔能实现薄膜成分的精确控制、降低黑腔脱模工艺难度，有效抑制激光等离子体受激布里渊散射；同时该薄膜还具有降低M带热电子产额、提高激光‑X射线转换效率、保护铀黑腔转化层的作用。UB2薄膜集减散、防护功能于一身，有效简化了点火黑腔及其它高性能、高转化率黑腔结构及其制备工艺。 | ||
| 搜索关键词： | ub2 薄膜 黑腔上 应用 | ||
【主权项】：
1.一种UB2薄膜在黑腔上的应用，其特征在于UB2薄膜作为减散/防护层替代黑腔Au/B减散层和Au防护层应用于黑腔上。
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