[发明专利]LED倒装芯片的制备方法在审

专利信息
申请号: 201710284443.1 申请日: 2017-04-25
公开(公告)号: CN107170857A 公开(公告)日: 2017-09-15
发明(设计)人: 李智勇;张向飞;刘坚 申请(专利权)人: 淮安澳洋顺昌光电技术有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/14;H01L33/48
代理公司: 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙)11548 代理人: 李静
地址: 223001 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及LED芯片工艺领域,公开了一种LED倒装芯片的制备方法,包括提供透光衬底;在透光衬底上生长外延层;同时刻蚀出隔离沟槽以及至少一个N电极沟槽以形成Mesa平台;在Mesa平台之上形成欧姆接触层;在欧姆接触层之上形成至少一个P‑finger,在各N电极沟槽之上分别制作一个N‑finger;在整个芯片表面形成高反绝缘层;图形化高反绝缘层以在至少一个P‑finger之上形成P导电通道,在至少一个N‑finger之上形成N导电通道;制作覆盖全部P导电通道和全部N导电通道的P焊垫和N焊垫;制作chip。本发明可以同时避开P电极上导电层吸收光和电极焊垫遮光,提高光强;缓解电流积聚,便于光学设计。
搜索关键词: led 倒装 芯片 制备 方法
【主权项】:
一种LED倒装芯片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:提供具有n个芯片单元区域A1、A2······An的透光衬底(1001),一个所述芯片单元区域为一个所述LED倒装芯片,其中,n≥1;S2:在所述透光衬底(1001)上生长外延层;S3:在各所述芯片单元区域上同时刻蚀出隔离沟槽(1002)以及至少一个N电极沟槽(1003)以形成Mesa平台(1004);S4:在所述Mesa平台(1004)之上形成欧姆接触层(1005);S5:在所述欧姆接触层(1005)之上形成至少一个P‑finger(1006),在各所述N电极沟槽(1003)之上分别制作一个N‑finger(1007);S6:在S5之后的整个芯片表面形成高反绝缘层(1008);S7:图形化所述高反绝缘层(1008)以在至少一个所述P‑finger(1006)之上形成P导电通道(1009),在至少一个所述N‑finger(1007)之上形成N导电通道(1010);S8:制作覆盖全部所述P导电通道(1009)和全部所述N导电通道(1010)的P焊垫(1011)和N焊垫(1012);S9:将各所述LED倒装芯片制作成chip。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于淮安澳洋顺昌光电技术有限公司,未经淮安澳洋顺昌光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710284443.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top