[发明专利]成膜装置在审

专利信息
申请号: 201710291819.1 申请日: 2011-10-19
公开(公告)号: CN107419227A 公开(公告)日: 2017-12-01
发明(设计)人: 佐藤善胜;大野哲宏;大空弘树;佐藤重光 申请(专利权)人: 株式会社爱发科
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司11018 代理人: 杨晶,王琦
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种成膜装置,包括支撑台和靶,该靶(C)包括背板(104、214),具有第一主面(104a、214a)和位于所述第一主面(104a、214a)相反侧的第二主面(104b、214b);第一母材(105),被配置在所述第一主面(104a、214a);和第二母材(106),被配置在所述第二主面(104b、214b)。
搜索关键词: 装置
【主权项】:
一种成膜装置,其特征在于,包括:支撑台,支撑被处理基板;和靶,所述靶包括:背板,具有第一主面、位于所述第一主面相反侧的第二主面、第一侧面、以及位于所述第一侧面的相反侧的第二侧面;第一母材,被配置在所述第一主面;第二母材,被配置在所述第二主面;旋转轴,从所述第一侧面朝向所述第二侧面贯通所述背板;和循环流路,被设置在所述背板的内部,并形成在与所述旋转轴相比靠近作为所述背板的最外面的所述第一主面和所述第二主面中的至少任意一方的位置,且流动有冷却水,所述背板的所述第一主面和所述第一母材经由粘接部件接合,并且所述背板的所述第二主面和所述第二母材经由粘接部件接合,隔着所述靶在所述支撑台的相反侧离开所述靶而设置有磁场生成部。
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