[发明专利]应用光谱仪来量测电浆气体解离状态的量测方法及装置有效
| 申请号： | 201710305494.8 | 申请日： | 2017-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN107290287B | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 潘瑞宝 | 申请（专利权）人： | 富兰登科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/25 | 分类号： | G01N21/25 |
| 代理公司： | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人： | 巴晓艳 |
| 地址： | 中国台湾新*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种利用光谱仪量测气体解离状态的量测方法及其装置。其原理主要藉由侦测管体内之气体解离状态，并藉由本装置计算出解离相对量值，俾于气体的主路径污染值过高时，由一第二路径适量释出被解离之反应气体，以排除该主路径之污染物其设置范围可应用于所有需量测气体解离状态之设备及/或装置，包括但不限于半导体、光电或面板等产业中的物理气相沉积设备、化学气相沉积设备或蚀刻设备等相关设备，也可直接设置于Remote Plasma Source(远端电浆源)设备内。另外，本发明也可应用在生技业、化学业及应用物理之相关行业的检验测试设备，更可进一步应用在以上相关行业之设备维修业的检验设备或测试平台。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用 光谱仪 来量测电浆 气体 解离 状态 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
1.一种应用光谱仪来量测气体解离状态的量测装置，其特征在于，包含：一主路径，供半导体积体电路制造时，进行电浆辅助沉积、薄膜蚀刻及改变材料表面作业，以达到特殊的功能及效果；结合于该主路径之第二路径，供容置反应气体，主路径与第二路径之间以管体连结；侦测件及光谱仪量测气体解离状态装置，设于主路径与第二路径之间，藉由该侦测件侦测管体内之气体解离状态，并由光谱仪量测气体解离状态装置计算出解离相对量值，所述主路径连结有节流阀、真空帮浦及净气器。
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