[发明专利]电子照相感光体、处理盒以及图像形成装置有效
| 申请号： | 201710311218.2 | 申请日： | 2017-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN107678255B | 公开（公告）日： | 2022-06-10 |
| 发明（设计）人： | 宫本昌彦;春山大辅;桥场成人 | 申请（专利权）人： | 富士胶片商业创新有限公司 |
| 主分类号： | G03G5/147 | 分类号： | G03G5/147 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 庞东成;龚泽亮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种电子照相感光体、处理盒以及图像形成装置，该电子照相感光体包括：导电基底，其满足条件(A)；底涂层，其满足条件(B)和条件(C)，设置在所述导电基底上，并且含有金属氧化物颗粒；以及感光层，其设置在所述底涂层上。条件(A)：在通过激光显微镜观察所述导电基底的表面存在的凹陷的情况下，最大凹陷的宽度为400μm以下，并且所述凹陷的深度为15μm以下；条件(B)：在对所述底涂层进行科尔‑科尔图分析的情况下，复数阻抗分量最大的角频率ωmax为2.0rad至25.0rad；以及条件(C)：通过所述底涂层的所述科尔‑科尔图分析获得的体积电阻率为7.0×10 |
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| 搜索关键词： | 电子 照相 感光 处理 以及 图像 形成 装置 | ||
【主权项】：
一种电子照相感光体，其特征在于，包括：导电基底，其满足条件(A)；底涂层，其满足条件(B)和条件(C)，设置在所述导电基底上，并且含有金属氧化物颗粒；以及感光层，其设置在所述底涂层上，其中，所述条件(A)至条件(C)如下：条件(A)：在通过激光显微镜观察所述导电基底的表面存在的凹陷的情况下，最大凹陷的宽度为400μm以下，并且所述凹陷的深度为15μm以下；条件(B)：在对所述底涂层进行科尔‑科尔图分析的情况下，复数阻抗分量最大的角频率ωmax在2.0rad至25.0rad的范围内；以及条件(C)：通过所述底涂层的所述科尔‑科尔图分析获得的体积电阻率在7.0×107Ω至1.0×109Ω的范围内。
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