[发明专利]一种镶嵌式结构的钨‑金刚石透射靶材及其制备方法在审
| 申请号： | 201710311739.8 | 申请日： | 2017-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN107227442A | 公开（公告）日： | 2017-10-03 |
| 发明（设计）人： | 马玉田;刘俊标;韩立 | 申请（专利权）人： | 中国科学院电工研究所 |
| 主分类号： | C23C14/18 | 分类号： | C23C14/18;C23C16/06;G01N23/04;H01J35/08 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司11251 | 代理人： | 关玲 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提出一种镶嵌式结构的钨‑金刚石透射靶材及其制备方法。该钨‑金刚石透射靶材利用氦离子显微镜，尤其是利用氦离子显微镜超高精度的多功能的加工能力，首先在几百微米厚度的金刚石片上进行打孔，孔的直径为几个微米，深度为几个微米，然后在这些小孔里面进行钨的沉积，从而制备出散热性、高质量的镶嵌式结构的钨‑金刚石透射靶材。该靶材在真空条件下一次性成型，不易受污染，并具有X射线出射率大、散热性好、寿命长等优点。该制备方法具有精度高、易控制、工艺简单等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 镶嵌 结构 金刚石 透射 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种镶嵌式结构的钨‑金刚石透射靶材，其特征在于：包括金刚石片和钨塞；所述钨塞通过氦离子显微镜的氖离子源在金刚石片中心位置打孔后，再以沉积方式镶嵌在金刚石片中。
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