[发明专利]利用测井曲线对构造进行精细校正的方法有效

专利信息
申请号: 201710313306.6 申请日: 2017-05-05
公开(公告)号: CN107132588B 公开(公告)日: 2019-09-24
发明(设计)人: 何嘉;陈小强;唐家琼;唐谢;陈丽清 申请(专利权)人: 中国石油集团川庆钻探工程有限公司
主分类号: G01V13/00 分类号: G01V13/00;E21B49/00
代理公司: 成都天嘉专利事务所(普通合伙) 51211 代理人: 冉鹏程
地址: 610051 四川省成都市*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种利用测井曲线对构造进行精细校正的方法,涉及石油天然气勘探开发技术领域,步骤为:a、收集将进行压裂改造的页岩气水平井测井资料、井轨迹资料(斜深、垂深、方位、井斜);b、选取某一地层分层界面作为校正构造基面;c、建立选取井深x米测井参数与距离校正构造基面真厚度H的相关性公式:d、根据求出的H,删除掉其中的异常数值,最终得到沿井轨迹向下投影的构造基面数值F,根据求出的构造基面数值F,可沿着页岩气水平井轨迹井深对五峰组顶构造进行精细校正。本发明利用测井曲线对构造进行精细校正,经过方法处理,可对水平井轨迹所钻遇区域的构造进行精细校正,具有极强的可操作性和现场实际应用性。
搜索关键词: 利用 测井 曲线 构造 进行 精细 校正 方法
【主权项】:
1.一种利用测井曲线对构造进行精细校正的方法,其特征在于步骤如下:a、收集将进行压裂改造的页岩气水平井测井资料和井轨迹资料;b、选取某一地层分层界面作为校正构造基面;c、建立选取井深x米的测井参数与距离校正构造基面真厚度H的相关性公式:H=AX+BY+CZ+…+a其中:A、B、C、…、a为常数,X、Y、Z、…为选取测井参数;所述相关性公式具体是:H=‑0.0755998529646553×GR+0.484034467565719×AC+0.324413040357806×CNL+22.5851335619178×DEN‑0.023402684641622×RXO‑0.0965828978484509×RT‑67.4960180934846其中:GR为自然伽玛,单位API;AC为补偿声波,单位μs/ft;CNL为补偿中子,单位p.u;DEN为补偿密度,单位g/cm3;RXO为浅电阻率,单位Ω·m;RT为深电阻率,单位Ω·m;d、根据求出的H,删除其中的异常数值,最终得到沿井轨迹向下投影的构造基面数值F:F=f(x)=H+TVD其中:TVD是对应井深x米的垂深数值;根据求出的构造基面数值F,对页岩气水平井储层构造进行校正。
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