[发明专利]一种由四卤化硅制备纳米硅的方法在审

专利信息
申请号: 201710313733.4 申请日: 2017-05-05
公开(公告)号: CN107265462A 公开(公告)日: 2017-10-20
发明(设计)人: 刘志亮;常兴华;梁盛进;郑捷;李星国 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: C01B33/033 分类号: C01B33/033;B82Y40/00
代理公司: 北京君尚知识产权代理事务所(普通合伙)11200 代理人: 刘召民
地址: 100871 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种由四卤化硅制备纳米硅的方法,该方法基于碱金属和碱土金属的强还原性,通过在室温下球磨实现四卤化硅的快速高效还原。该方法极其简单高效,不需要使用任何溶剂和其它反应介质,且可以在室温下大量合成纳米硅,具有原料廉价易得,反应简单快捷,产率高,成本低,容易扩大生产等优势。所制备出的纳米硅纯度高,尺寸小,可调控,且分布均匀,可用于锂离子电池负极材料,太阳能电池,传感器,光学器件等各个方面,极具工业化应用前景。
搜索关键词: 一种 卤化 制备 纳米 方法
【主权项】:
一种由四卤化硅制备纳米硅的方法,具体步骤如下:(1)取四卤化硅和碱金属/碱土金属进行球磨;(2)往球磨后后的混合物中依次加入乙醇和水,再洗涤、分离、干燥,得到纳米硅。
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