[发明专利]蚀刻液及显示器的制造方法在审
| 申请号： | 201710317772.1 | 申请日： | 2017-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN108203829A | 公开（公告）日： | 2018-06-26 |
| 发明（设计）人： | 许博云;蔡奇哲;高克毅 | 申请（专利权）人： | 群创光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/44 | 分类号： | C23F1/44;H01L21/84 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 骆希聪 |
| 地址： | 中国台湾新竹科学工*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种蚀刻液及显示器的制造方法。蚀刻液包括双氧水、丁二酸、丙二酸、醋酸、硫酸、异丙醇胺、5‑氨基‑1H‑四唑、四羟丙基乙二胺以及甘胺酸，上述成分均匀混合于去离子水中，其中双氧水占蚀刻液的重量百分比为5～10wt％，丁二酸占蚀刻液的重量百分比为0.5～10wt％，丙二酸占蚀刻液的重量百分比为0.5～10wt％，醋酸占蚀刻液的重量百分比为1～10wt％，硫酸占蚀刻液的重量百分比为0.5～5wt％，异丙醇胺占蚀刻液的重量百分比为1～20wt％，5‑氨基‑1H‑四唑占蚀刻液的重量百分比为0.01～0.5wt％，四羟丙基乙二胺占蚀刻液的重量百分比为1～15wt％，甘胺酸占蚀刻液的重量百分比为1～5wt％。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻液 重量百分比 双氧水 四羟丙基乙二胺 氨基 醋酸 异丙醇胺 丙二酸 丁二酸 甘胺 四唑 显示器 硫酸 水中 离子 制造 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻液，其特征在于，该蚀刻液包括：双氧水、丁二酸、丙二酸、醋酸、硫酸、异丙醇胺、5‑氨基‑1H‑四唑、四羟丙基乙二胺以及甘胺酸，均匀混合于去离子水中，其中该双氧水占该蚀刻液的重量百分比为5～10wt％，该丁二酸占该蚀刻液的重量百分比为0.5～10wt％，该丙二酸占该蚀刻液的重量百分比为0.5～10wt％，该醋酸占该蚀刻液的重量百分比为1～10wt％，该硫酸占该蚀刻液的重量百分比为0.5～5wt％，该异丙醇胺占该蚀刻液的重量百分比为1～20wt％，该5‑氨基‑1H‑四唑占该蚀刻液的重量百分比为0.01～0.5wt％，该四羟丙基乙二胺占该蚀刻液的重量百分比为1～15wt％，该甘胺酸占该蚀刻液的重量百分比为1～5wt％。
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