[发明专利]一种调节和确定饱和温度的方法在审

专利信息
申请号: 201710320721.4 申请日: 2017-05-09
公开(公告)号: CN108865270A 公开(公告)日: 2018-11-23
发明(设计)人: 王万利 申请(专利权)人: 王万利
主分类号: C10J3/02 分类号: C10J3/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 255311 山东省淄博市周村*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 一种调节和确定饱和温度的方法,涉及煤气的生产方法,包括,升高饱和温度,氧化层上升,上升距离与蒸汽压力有关;升高饱和温度,氧化层上升距离基本等于氧化层循环位置上升距离;降低饱和温度,氧化层下降,下降距离与蒸汽压力有关;降低饱和温度,氧化层下降距离基本等于氧化层循环位置下降距离;饱和温度周期循环。氧化层循环位置低,升高饱和温度,或升高蒸汽压力,或调节二者。氧化层循环位置高,降低饱和温度,或降低蒸汽压力,或调节二者。氧化层循环过程中,氧化层上升过程,升高饱和温度,氧化层下降过程中后部,降低饱和温度。温度显示的氧化层当作氧化层循环位置。本发明优点,提高气化效率,降低劳动强度,炉篦寿命长。
搜索关键词: 氧化层 饱和 循环位置 蒸汽压力 升高 上升距离 下降距离 气化效率 上升过程 温度显示 温度周期 下降过程 循环过程 中后部 炉篦 煤气 生产
【主权项】:
1.一种调节和确定饱和温度的方法,饱和温度40‑65℃,其特征在于,包括:饱和温度每升高1℃,氧化层上升6‑100mm,其一,气化剂混合前,蒸汽压力小,氧化层上升距离小,蒸汽压力大,氧化层上升距离大,其二,气化剂通过气化剂混合器,蒸汽压力减量大,氧化层上升距离小,蒸汽压力减量小,氧化层上升距离大,其三,基本饱和温度低,氧化层上升距离小,饱和温度高,氧化层上升距离大;升高饱和温度,减少或消除蒸汽压力变化,1‑5个氧化层循环周期,饱和温度稳定,蒸汽压力稳定,升高饱和温度,氧化层上升距离基本等于氧化层循环位置升高距离;饱和温度每降低1℃,氧化层下降6‑100mm,其一,气化剂混合前,蒸汽压力小,氧化层下降距离小,蒸汽压力大,氧化层下降距离大,其二,气化剂通过气化剂混合器,蒸汽压力减量大,氧化层下降距离小,蒸汽压力减量小,氧化层下降距离大,其三,基本饱和温度低,氧化层下降距离小,饱和温度高,氧化层下降距离大;降低饱和温度,减少或消除蒸汽压力变化,1‑3个氧化层循环周期,饱和温度稳定,蒸汽压力稳定,降低饱和温度,氧化层下降距离基本等于氧化层循环位置降低距离;氧化层循环位置内,氧化层上升,饱和温度同时升高0.1‑3℃,氧化层下降,饱和温度同时降低0.1‑3℃,饱和温度升高值基本等于饱和温度降低值,按氧化层循环周期循环。
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