[发明专利]一种高靶材利用率的矩形磁控溅射阴极在审
| 申请号： | 201710322187.0 | 申请日： | 2017-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN108728808A | 公开（公告）日： | 2018-11-02 |
| 发明（设计）人： | 李伟;张奇龙 | 申请（专利权）人： | 杭州朗为科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310000 浙江省杭州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高靶材利用率的矩形磁控溅射阴极，包括磁钢和磁轭，一个阴极包括七道磁钢，一个磁轭与七道磁钢通过磁力相连接，相邻的两道磁钢互相磁路闭合，所有的磁钢均以正中间磁钢为对称轴左右对称分布，本发明的设置，由于磁钢道数的增多以及特殊设计的磁路结构，会使得磁场从传统的V字型转变为U字型，能够对靶面进行更大面积的刻蚀，从而提升了靶材的利用率，从目前的20%提升到40%，有效节省了材料，同时，因为刻蚀面更加平坦，可以有效提高膜层的均匀性，获得更好的镀膜效果；单个靶材使用时间的延长，可以避免频繁更换靶材，降低开真空室的次数，既可以保证生产的连续性，提高工作效率，也可以改善产品的洁净度。 | ||
| 搜索关键词： | 磁钢 靶材 磁控溅射阴极 靶材利用率 磁轭 刻蚀 左右对称分布 阴极 磁路闭合 磁路结构 镀膜效果 工作效率 磁力 传统的 对称轴 洁净度 均匀性 真空室 对靶 膜层 磁场 平坦 保证 生产 | ||
【主权项】：
1.一种高靶材利用率的矩形磁控溅射阴极，包括磁钢（1）和磁轭（2），其特征在于，一个阴极包括七道磁钢（1），一个所述磁轭（2）与七道磁钢（1）通过磁力相连接，相邻的两道磁钢（1）互相磁路闭合，所有的磁钢（1）均以正中间磁钢（1）为对称轴左右对称分布，且所有的磁钢（1）共同形成U字型的磁场。
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