[发明专利]一种环烯醚萜苷假模板分子印迹聚合物及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 201710326552.5 | 申请日： | 2017-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN107151290B | 公开（公告）日： | 2019-01-11 |
| 发明（设计）人： | 纪文华;王晓;耿岩玲;刘伟;闫慧娇;高乾善;王涛 | 申请（专利权）人： | 山东省分析测试中心 |
| 主分类号： | C08F222/38 | 分类号： | C08F222/38;C08F212/32;C08F226/12;C08F212/36;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30;B01D15/08 |
| 代理公司： | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人： | 张晓鹏 |
| 地址： | 250014 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种环烯醚萜苷假模板分子印迹聚合物及其制备方法与应用，解决了现有技术中模板泄露和模板分子价格昂贵的问题，制备方法包括以下步骤：1)以环烯醚萜苷类似物4‑苯基‑D‑吡喃葡萄糖苷为假模板，将假模板、功能单体、交联剂、引发剂和制孔剂加入反应釜中混合，超声脱气和充氮除氧后，恒温聚合，得到带有假模板分子的聚合物；2)将步骤1)中制备的带有假模板分子的聚合物研磨、清洗除去模板分子，得到留有分子印迹孔穴的分子印迹聚合物颗粒。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 环烯醚萜苷假 模板 分子 印迹 聚合物 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种环烯醚萜苷假模板分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：1)以环烯醚萜苷类似物4‑苯基‑D‑吡喃葡萄糖苷为假模板，将假模板、功能单体、交联剂、引发剂和致孔剂加入反应釜中混合，超声脱气和充氮除氧后，恒温聚合，得到带有假模板分子的聚合物；2)将步骤1)中制备的带有假模板分子的聚合物研磨、清洗除去模板分子，得到留有分子印迹孔穴的分子印迹聚合物颗粒。
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