[发明专利]一种锰掺杂二氧化钛纳米管阵列膜及气敏元件以及其制备方法有效
申请号: | 201710327503.3 | 申请日: | 2017-05-08 |
公开(公告)号: | CN107268061B | 公开(公告)日: | 2019-01-25 |
发明(设计)人: | 赵春霞;徐周;邵林清;陈文;金伟 | 申请(专利权)人: | 武汉理工大学 |
主分类号: | C25D11/26 | 分类号: | C25D11/26;B82Y40/00;G01N27/00;G01N33/00 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 唐万荣 |
地址: | 430070 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种锰掺杂二氧化钛纳米管阵列膜及气敏元件以及其制备方法。本发明是以阳极氧化法原位制备锰掺杂二氧化钛纳米管阵列膜,通过热处理结合阳极氧化将其剥离,并转移至陶瓷管上制作成气敏元件。本发明制备过程简单、成本较低、工艺参数便于控制,制备的锰掺杂二氧化钛纳米管阵列膜结构规整,纳米管尺寸均一,光学带隙降低,气敏性能显著提升。 | ||
搜索关键词: | 一种 掺杂 氧化 纳米 阵列 元件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种锰掺杂二氧化钛纳米管阵列膜,其特征在于由如下步骤得到:1)以钛片为阳极,石墨片为阴极,以乙二醇‑氟化铵‑醋酸锰体系作电解液,在20~40V电压下进行阳极氧化0.5~3h;将钛片表面生成的氧化膜去除后,再放入上述相同的电解液中进行二次阳极氧化反应1~6h,获得生长在钛片上的锰掺杂二氧化钛纳米管阵列膜;将反应完的钛片清洗干净并烘干;2)将烘干的钛片在350~550℃下进行热处理2~5h后,再放入上述步骤1)相同电解液中,在20~40V下进行三次阳极氧化反应10~15h,将锰掺杂二氧化钛纳米管阵列膜从钛片上剥离下来;收集脱落的膜材料,用乙醇清洗干净,烘干,得到锰掺杂二氧化钛纳米管阵列膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉理工大学,未经武汉理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710327503.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。