[发明专利]薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板、显示装置有效
| 申请号： | 201710329780.8 | 申请日： | 2017-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN107123687B | 公开（公告）日： | 2020-03-13 |
| 发明（设计）人： | 操彬彬;王超;孙林 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L21/34 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 滕一斌 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板、显示装置，属于显示技术领域。薄膜晶体管包括：依次叠加的栅极图案、栅绝缘层、有源层图案、源极图案以及漏极图案，源极图案中朝向栅绝缘层的表面、漏极图案中朝向栅绝缘层的表面以及栅极图案中朝向栅绝缘层的表面中，存在至少一个表面为目标表面，目标表面能够对射入目标表面的光线进行漫反射，以阻止部分光线射入有源层图案。本申请解决了有源层图案的伏安特性曲线会发生偏移，影响薄膜晶体管的正常工作的问题，减弱了目标光线对薄膜晶体管正常工作的影响程度，本申请用于显示装置。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜晶体管 及其 制造 方法 阵列 显示装置 | ||
【主权项】：
一种薄膜晶体管，其特征在于，所述薄膜晶体管包括：依次叠加的栅极图案、栅绝缘层、有源层图案、源极图案以及漏极图案，所述源极图案中朝向所述栅绝缘层的表面、所述漏极图案中朝向所述栅绝缘层的表面以及所述栅极图案中朝向所述栅绝缘层的表面中，存在至少一个表面为目标表面，所述目标表面能够对射入所述目标表面的光线进行漫反射，以阻止部分光线射入所述有源层图案。
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