[发明专利]稳定微弧氧化槽液pH值的方法及装置在审
| 申请号： | 201710339241.2 | 申请日： | 2017-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN107177873A | 公开（公告）日： | 2017-09-19 |
| 发明（设计）人： | 王剑;何明洋;黄帅 | 申请（专利权）人： | 西华大学 |
| 主分类号： | C25D11/02 | 分类号： | C25D11/02;C25D21/12 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610039 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及稳定槽液pH值的方法，尤其涉及一种稳定微弧氧化槽液pH值的方法，包括清洁工件表面残留水滴步骤、减少微弧氧化槽液水分蒸发步骤、回收工件表面残留碱液步骤；还涉及一种稳定微弧氧化槽液pH值的装置，包括清洗槽和氧化槽；其中，清洗槽内设置清水风机，氧化槽内设置盖板、转轴、散热棒、散热风机、清碱风机。本发明解决了微弧氧化槽液pH不稳定的技术问题。本发明涉及的方法及装置也适合阳极氧化、其他化学成膜及电化学成膜。 | ||
| 搜索关键词： | 稳定 氧化 ph 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种稳定微弧氧化槽液pH值的方法，其特征在于，包括下列步骤：步骤一：清洁工件表面残留水滴步骤，工件置于清洗槽中清洗，清洗后提升工件至清水风机位置，打开清水风机，对工件进行清洁，直至工件表层无残留水滴；步骤二：减少微弧氧化槽液水分蒸发步骤，清洗槽中已清洁工件移至氧化槽槽液中，通过转轴转动闭合盖板，开启散热风机，开始微弧氧化；步骤三：回收工件表面残留碱液步骤，微弧氧化后，通过转轴转动打开盖板，提升工件至清碱风机位置，打开清碱风机，使工件表层残留碱液回流至氧化槽，直至工件表层无残留碱液，取出工件。
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