[发明专利]等离子体处理装置、等离子体处理方法和制造电子器件的方法

摘要

本发明涉及一种等离子体处理装置、等离子体处理方法和制造电子器件的方法。在电感耦合等离子炬单元中，线圈、第一陶瓷块及第二陶瓷块彼此平行布置，并且长形的腔室为环状。在腔室内产生的等离子体通过腔室中的开口部向衬底喷出。通过使长形的腔室和衬底沿与开口部的纵向方向垂直的方向相对移动来对衬底进行处理。通过设置旋转的圆筒状的陶瓷管以便使制冷剂流向陶瓷管内部形成的空腔。由此能够施加较高的高频功率，从而能够进行快速的等离子体处理。

主权项

1.一种利用电感耦合等离子炬的等离子体处理装置，包括：长形且环状的腔室，所述腔室除开口部以外被电介质部件包围，并且与所述开口部连通；气体供应管，所述气体供应管向所述腔室内导入气体；线圈，所述线圈设置于所述腔室附近；高频电源，所述高频电源连接到所述线圈；以及衬底载置台，其中，在包围所述腔室的所述电介质部件中，构成与所述衬底载置台相对的表面的部分被配置成包括与所述腔室的纵向方向平行布置的圆筒，并且其中，所述环状的腔室是通过将形成两个短边的线状部连接到形成两个长边的线状部的两端而成的、连续的封闭带状的形状，所述环状的腔室的底部的上表面被配置成包括所述圆筒。