[发明专利]可不开腔清洁阳极罩的磁控溅射装置及清洁方法有效
申请号: | 201710347518.6 | 申请日: | 2017-05-17 |
公开(公告)号: | CN107151783B | 公开(公告)日: | 2019-06-07 |
发明(设计)人: | 毛朝斌;舒勇东;范江华;罗超;佘鹏程;胡凡;彭立波 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 周长清;徐好 |
地址: | 410111 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 可不开腔清洁阳极罩的磁控溅射装置,包括腔体、靶材及设于腔体上的磁控靶和磁控靶挡板,腔体外侧设有第一接头、第二接头及升降机构,第一接头与腔体之间设有绝缘件,第二接头与腔体连通,升降机构与磁控靶挡板连接,磁控靶电源阳极与腔体连通,磁控靶挡板与腔体连通,靶材通过第一导线与磁控靶电源阴极连通,磁控靶的阳极罩通过第二导线与第一接头连通。清洁方法,S1调整磁控靶挡板位置,使磁控靶挡板与磁控靶的阳极罩之间可进行辉光溅射;第一导线连接至第一接头;S2磁控靶电源在磁控靶挡板与阳极罩之间施加电压,腔体中充入工艺气体,磁控靶挡板与阳极罩之间产生辉光溅射。本发明结构简单、可靠,能够不打开腔体清洁阳极罩上薄膜。 | ||
搜索关键词: | 磁控靶 阳极罩 挡板 腔体 腔体连通 清洁 磁控溅射装置 开腔 升降机构 靶材 辉光 溅射 连通 挡板位置 导线连接 电源阳极 电源阴极 工艺气体 施加电压 绝缘件 上薄膜 电源 | ||
【主权项】:
1.一种可不开腔清洁阳极罩的磁控溅射装置,包括腔体(101)、靶材(206)、以及安装于腔体(101)上的磁控靶(20)和旋转式的磁控靶挡板(106),其特征在于:所述腔体(101)外侧设有第一接头(304)、第二接头(308)及升降机构(301),所述第一接头(304)与所述腔体(101)之间设有绝缘件(305),所述第二接头(308)与所述腔体(101)连通,所述升降机构(301)与所述磁控靶挡板(106)连接,所述磁控靶(20)电源的阳极与所述腔体(101)连通,所述磁控靶挡板(106)与所述腔体(101)连通,所述靶材(206)通过第一导线(109)与所述磁控靶(20)电源的阴极连通,所述磁控靶(20)的阳极罩(203)通过第二导线(306)与所述第一接头(304)连通,所述磁控靶(20)包括固定座(201)和绝缘块(202),所述固定座(201)套设于所述绝缘块(202)上部外侧,所述阳极罩(203)套设于所述绝缘块(202)下部外侧,所述绝缘块(202)底部由内至外依次设有磁轭(211)、冷却罩(205)及阴极罩(204),所述阳极罩(203)位于所述阴极罩(204)外侧,所述磁轭(211)下部设有极性相反的磁铁(208),所述阴极罩(204)将所述靶材(206)压紧于所述冷却罩(205)下方,所述第一导线(109)与所述冷却罩(205)连通。
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