[发明专利]制备配向膜的系统与方法、基板以及显示面板在审
| 申请号： | 201710348821.8 | 申请日： | 2017-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN106990616A | 公开（公告）日： | 2017-07-28 |
| 发明（设计）人： | 韩君奇;李静;陆光权;刘利萍 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人： | 赵天月 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了制备配向膜的系统与方法、基板以及显示面板，该系统包括刻蚀装置，所述刻蚀装置中限定出样品容纳空间；模板装置，所述模板装置包括刻蚀模板，所述刻蚀模板与所述刻蚀装置相对设置；以及等离子体装置，所述等离子体装置设置在所述模板装置远离所述刻蚀装置的一侧，所述等离子体装置被设置为能够产生等离子体，且所述等离子体能够通过所述刻蚀模板，作用于所述样品容纳空间中的待刻蚀样品。由此，可以利用等离子体刻蚀制备配向膜，使配向膜边缘整齐，有利于LCD的窄边框化，并缓解配向膜边缘扩散区域厚度不均的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 系统 方法 以及 显示 面板 | ||
【主权项】：
一种制备配向膜的系统，其特征在于，包括：刻蚀装置，所述刻蚀装置中限定出样品容纳空间；模板装置，所述模板装置包括刻蚀模板，所述刻蚀模板与所述刻蚀装置相对设置；以及等离子体装置，所述等离子体装置设置在所述模板装置远离所述刻蚀装置的一侧，所述等离子体装置被设置为能够产生等离子体，且所述等离子体能够通过所述刻蚀模板，作用于所述样品容纳空间中的待刻蚀样品。
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