[发明专利]一种旋转铌靶材及其制备方法有效
申请号: | 201710350812.2 | 申请日: | 2017-05-18 |
公开(公告)号: | CN107130216B | 公开(公告)日: | 2019-02-19 |
发明(设计)人: | 罗永春;胥小勇;石煜;曾墩风;王志强;雷雨;江涛 | 申请(专利权)人: | 芜湖映日科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人: | 胡定华 |
地址: | 241000 安徽省芜湖*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明提供一种旋转铌靶材及其制备方法,所述旋转铌靶材为铌材料喷涂二次,所述旋转铌靶材的密度为7.6‑8.2g/cm³,所述旋转铌靶材的氧含量为3000‑6000ppm,所述旋转铌靶材的氮含量为2000‑12000ppm。通过等离子喷涂方法对铌靶材进行制备,提高制备效率,并且减少制备成本,尽量缩小晶粒尺寸,并且便于对使用后的残靶材进行修补,并且通过对铌靶材的氧氮含量进行控制,提升铌靶材的制造质量。 | ||
搜索关键词: | 铌靶 制备 等离子喷涂 晶粒 铌材料 靶材 喷涂 氧氮 修补 制造 | ||
【主权项】:
1.一种旋转铌靶材的制备方法,其特征在于:所述旋转铌靶材的密度为7.6‑8.2g/cm3,所述旋转铌靶材的氧含量为3000‑6000ppm,所述旋转铌靶材的氮含量为2000‑12000ppm,所述旋转铌靶材的晶粒尺寸≤15μm,所述制备方法步骤如下:步骤一:将基体表面进行喷砂清理,并喷涂打底层;步骤二:使用热喷涂设备将铌粉末或铌丝喷涂在基体表面;步骤三:对靶材表面进行剖光处理,并对其进行两端进行机加工处理。
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