[发明专利]光罩卡夹清洁装置及曝光机有效
申请号: | 201710364101.0 | 申请日: | 2017-05-22 |
公开(公告)号: | CN106950797B | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
发明(设计)人: | 罗善高 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;G03F7/20 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种光罩卡夹清洁装置及曝光机,涉及液晶显示器技术领域,用于解决现有技术中存在的清洁效率低以及清洁程度不够彻底的技术问题。本发明的光罩卡夹清洁装置,包括吸附部件,该吸附部件固定于曝光机上用于容纳光罩卡夹的光罩交换腔处,当执行上机或下机动作时,吸附部件能够迅速地将光罩卡夹上的异物吸走,因此通过该吸附部件可提高清洁的效率;此外,对于光罩卡夹从光罩交换腔的开口处运动到完全进入光罩交换腔中的这一过程而言,随着光罩卡夹的运动,吸附部件进行扫描式吸附,因此能够对光罩卡夹进行彻底的清洁,使产品的品质得到了保障。 | ||
搜索关键词: | 光罩卡夹 清洁 装置 曝光 | ||
【主权项】:
一种光罩卡夹清洁装置,其特征在于,包括吸附部件(1),所述吸附部件(1)固定于光罩交换腔(21)的开口处,所述光罩交换腔(21)用于容纳光罩卡夹(3);所述吸附部件(1)的吸附面朝向所述光罩卡夹(3)的表面设置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710364101.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种扁线电机定子槽绝缘结构
- 下一篇:一种放射科IP板放置架
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备