[发明专利]散射粒子跟踪方法和装置有效
申请号: | 201710366130.0 | 申请日: | 2017-05-22 |
公开(公告)号: | CN108959670B | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 朱国平;邹伟;邓艳丽;明申金;李君利;苗齐田 | 申请(专利权)人: | 同方威视技术股份有限公司;清华大学 |
主分类号: | G06F30/20 | 分类号: | G06F30/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 倪斌 |
地址: | 100084 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本公开提供了一种散射粒子跟踪方法和装置。该散射粒子跟踪方法包括:建立系统模型,所述系统模型包括物理体和目标区域;将物理体分为多个子物理体,并将目标区域分为多个子目标区域;针对每一粒子,记录所述粒子的输运径迹,直到所述粒子的输运径迹结束为止,其中如果所述粒子在一个子物理体上发生散射,则在所述粒子的输运径迹中增加所述子物理体的标记;且如果所述粒子落入多个子目标区域中的一个子目标区域,则在所述粒子的输运径迹中增加所述子目标区域的标记;以及将针对每一粒子的输运径迹存储在粒子输运径迹数据库中。 | ||
搜索关键词: | 散射 粒子 跟踪 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种散射粒子跟踪方法,包括:建立系统模型,所述系统模型包括物理体和目标区域;将物理体分为多个子物理体,并将目标区域分为多个子目标区域;针对每一粒子,记录所述粒子的输运径迹,直到所述粒子的输运径迹结束为止,其中如果所述粒子在一个子物理体上发生散射,则在所述粒子的输运径迹中增加所述子物理体的标记;且如果所述粒子落入多个子目标区域中的一个子目标区域,则在所述粒子的输运径迹中增加所述子目标区域的标记;以及将针对每一粒子的输运径迹存储在粒子输运径迹数据库中。
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