[发明专利]一种β-氧化镓纳米阵列的制备方法有效
申请号: | 201710367780.7 | 申请日: | 2017-05-23 |
公开(公告)号: | CN107180882B | 公开(公告)日: | 2018-10-26 |
发明(设计)人: | 矫淑杰;刘超越;廖奕凯 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | H01L31/0296 | 分类号: | H01L31/0296;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 哈尔滨龙科专利代理有限公司 23206 | 代理人: | 高媛 |
地址: | 150000 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 本发明公开了一种β‑氧化镓纳米阵列的制备方法,所述方法利用水浴法制备GaOOH种子层,然后利用水热法在种子层上制备GaOOH纳米阵列,最后通过热退火获得β‑Ga2O3纳米阵列。本发明的方法是一种绿色化学方法,采用化学方法种子层和纳米阵列,阵列排列整齐,尺寸均匀,制备方法简单廉价,易推广,利于大面积制备,并由于制备了GaOOH种子层,可不限定衬底,可使用石英、硅、透明导电衬底(ITO或FTO)、蓝宝石(C‑Al2O3)等衬底,利于不同的应用。 | ||
搜索关键词: | 制备 纳米阵列 种子层 衬底 氧化镓 绿色化学 透明导电 阵列排列 蓝宝石 热退火 水热法 石英 水浴 整齐 应用 | ||
【主权项】:
1.一种β‑氧化镓纳米阵列的制备方法,其特征在于所述方法步骤如下:一、利用水浴法制备GaOOH种子层:(1)配置Ga(NO3)3和六亚甲基四胺的混合溶液;(2)将所用衬底生长面向下放置在装有上述混合溶液的烧杯中,利用水浴法进行GaOOH种子层生长;(3)自然冷却后取出,经去离子水冲洗,烘干,得到GaOOH种子层;二、利用水热法制备GaOOH纳米阵列:(1)配置Ga(NO3)3和六亚甲基四胺的混合溶液;(2)将步骤一得到的带有GaOOH种子层的衬底经去离子水冲洗、烘干后放置在Ga(NO3)3和HMT的混合溶液中,利用水热法在种子层上制备GaOOH纳米阵列;(3)自然降温至室温,将衬底取出,去离子水冲洗,烘干,获得GaOOH纳米阵列;三、将步骤二得到的GaOOH纳米阵列放入退火炉中退火,然后自然冷却到室温,得到β‑氧化镓纳米线阵列。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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