[发明专利]掩膜板及其制作方法有效
申请号: | 201710368266.5 | 申请日: | 2017-05-23 |
公开(公告)号: | CN107119288B | 公开(公告)日: | 2019-08-02 |
发明(设计)人: | 李春霞 | 申请(专利权)人: | 上海天马有机发光显示技术有限公司 |
主分类号: | C25D1/10 | 分类号: | C25D1/10;C23C14/04 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王宝筠 |
地址: | 201201 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本申请公开了一种掩膜板制作方法,包括:提供基板;在基板上形成导电的过渡层;在过渡层上形成绝缘的掩膜板定义层,掩膜板定义层上具有多个开口,以暴露出过渡层;以所述掩膜板定义层为掩膜,以掩膜板定义层上的多个开口暴露出的过渡层为电极,采用电铸工艺,在掩膜板定义层的开口内形成电铸膜;去除所述掩膜板定义层,保留电铸膜;采用机械剥离工艺,将所述电铸膜剥离所述过渡层,得到掩膜板;其中,电铸膜与过渡层之间的附着力,小于过渡层与基板之间的附着力,以及小于电铸膜与基板之间的附着力。本发明相较于现有技术,在将电铸膜剥离过渡层的过程中,减小了对电铸膜的损伤,在一定程度上提高了掩膜板的成品率。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板 过渡层 电铸 定义层 附着力 基板 开口 膜剥离 电铸工艺 机械剥离 成品率 暴露 电极 导电 减小 绝缘 去除 掩膜 制作 损伤 保留 申请 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜板制作方法,其特征在于,包括:提供基板;在所述基板上形成过渡层,所述过渡层的材料为导电材料;在所述过渡层上形成掩膜板定义层,所述掩膜板定义层上具有多个开口,以暴露出所述过渡层,且所述掩膜板定义层的材料为绝缘材料;以所述掩膜板定义层为掩膜,以所述掩膜板定义层上的多个开口暴露出的所述过渡层为电极,采用电铸工艺,在掩膜板定义层的所述开口内形成电铸膜;去除所述掩膜板定义层,保留所述电铸膜;采用机械剥离工艺,将所述电铸膜剥离所述过渡层,得到掩膜板;其中,所述电铸膜与所述过渡层之间的附着力,小于所述过渡层与所述基板之间的附着力,且所述电铸膜与所述过渡层之间的附着力,小于所述电铸膜与所述基板之间的附着力。
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