[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201710370614.2 申请日: 2017-05-23
公开(公告)号: CN107204345B 公开(公告)日: 2019-08-13
发明(设计)人: 王培;金贤镇;张凯;史大为;王文涛 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种阵列基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,可屏蔽设备积累的静电与阵列基板的衬底背面相接触后,通过感应产生的ESD传输到阵列基板中的信号线和/或TFT元件上,提高了产品良率。该制备方法包括,在衬底基板上方形成栅线、数据线和薄膜晶体管的步骤;以及在前述步骤之前的,在衬底基板上依次形成静电屏蔽层、覆盖所述静电屏蔽层的隔离层的步骤;其中,所述静电屏蔽层的图案在所述衬底基板上的正投影覆盖待形成的所述栅线、所述数据线和所述薄膜晶体管中至少一者的图案在所述衬底基板上的正投影。用于阵列基板及包括该阵列基板的显示装置的制备。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制备 方法 显示装置
【主权项】:
1.一种阵列基板的制备方法,所述制备方法包括,在衬底基板上方形成栅线、数据线和薄膜晶体管的步骤;其特征在于,所述在衬底基板上方形成栅线、数据线和薄膜晶体管的步骤之前,所述制备方法还包括,在衬底基板上依次形成静电屏蔽层、覆盖所述静电屏蔽层的隔离层的步骤;其中,所述静电屏蔽层的图案在所述衬底基板上的正投影覆盖待形成的所述栅线、所述数据线和所述薄膜晶体管中至少一者的图案在所述衬底基板上的正投影;形成的所述静电屏蔽层的图案,包括,多条横向部和多条纵向部,所述多条横向部与所述多条纵向部相互交叉形成网格状的图案;其中,所述横向部在所述衬底基板上的正投影覆盖待形成的所述栅线在所述衬底基板上的正投影,所述纵向部在所述衬底基板上的正投影覆盖待形成的所述数据线在所述衬底基板上的正投影。
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