[发明专利]柔性基板及其制作方法有效
申请号: | 201710380567.X | 申请日: | 2017-05-25 |
公开(公告)号: | CN107195658B | 公开(公告)日: | 2020-01-21 |
发明(设计)人: | 冷传利;陈海晶;世良贤二 | 申请(专利权)人: | 上海天马微电子有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/00 |
代理公司: | 11603 北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人: | 于淼 |
地址: | 201201 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种柔性基板及其制作方法。该方法包括:制作玻璃载板,其中,玻璃载板包括第一表面,第一表面包括若干第一区域和若干第二区域,第一区域包围第二区域,且第一区域的粗糙度大于第二区域的粗糙度;在玻璃载板的第一表面上涂布柔性基底材料以形成柔性基板的柔性基底;在柔性基底远离玻璃载板的一侧上制作电子器件和显示器件以形成柔性基板;对承载有柔性基板的玻璃载板进行切割,其中,切割的切割线位于第二区域;以及将柔性基板从玻璃载板剥离。通过本发明,制作柔性基板的过程中,柔性基板与玻璃载板粘附性强,同时制作完成后柔性基板易于从玻璃载板上剥离,柔性基板平整度好。 | ||
搜索关键词: | 柔性 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种柔性基板的制作方法,其特征在于,包括:/n制作玻璃载板,其中,所述玻璃载板包括第一表面,所述第一表面包括若干第一区域和若干第二区域,具体为:提供粗糙度均匀的第一玻璃基板,在所述第一玻璃基板的第二区域沉积遮挡层,所述遮挡层为光刻胶;对所述第一玻璃基板的第一区域进行粗糙化处理,以使所述第一区域的粗糙度为第一粗糙度;去除所述遮挡层,对所述第一玻璃基板的第二区域进行抛光处理,以使所述第二区域的粗糙度为第二粗糙度;其中,所述第一玻璃基板的第一区域包围所述第一玻璃基板上的第二区域,所述第一粗糙度大于所述第二粗糙度;其中,对所述第一玻璃基板的第一区域进行粗糙化处理的步骤具体为:采用等离子处理工艺、干法刻蚀、湿法刻蚀或光刻对所述第一玻璃基板的第一区域进行粗糙化处理,所述第一粗糙度为Ra=0.4;/n在所述玻璃载板的第一表面上涂布柔性基底材料以形成所述柔性基板的柔性基底;/n在所述柔性基底远离所述玻璃载板的一侧上制作电子器件和显示器件以形成所述柔性基板;/n对承载有所述柔性基板的玻璃载板进行切割,其中,所述切割的切割线位于所述第二区域;以及/n将所述柔性基板从所述玻璃载板剥离。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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